Campus Estância abre seleção para cursos de Eletrotécnica e Edificações
Ao todo estão sendo oferecidas 90 vagas. As inscrições podem ser realizadas até o dia 28 de agosto e a taxa cobrada é de R$ 5
O Instituto Federal de Sergipe (IFS) – Campus Estância está com 90 vagas abertas para os cursos de Eletrotécnica e Edificações na modalidade subsequente, voltada para quem já concluiu o ensino médio. As inscrições podem ser realizadas até o dia 28 de agosto no endereço https://qacademico.ifs.edu.br/qselecao/ e a taxa cobrada é de R$ 5.
As provas serão aplicadas no dia 15 de outubro, das 9h às 13h. O resultado preliminar deve ser divulgado no dia 7 de novembro, seguido do período para interposição de recursos, no dia 8. A divulgação do resultado final está prevista para o dia 16 do mesmo mês. As matrículas dos candidatos selecionados serão realizadas de 20 a 23 de novembro.
Os pedidos de isenção da taxa de inscrição podem ser feitos até o dia 4 de agosto na sede do campus, das 8h às 11h e das 13h às 16h, localizado na Rua Café Filho, nº 260, bairro Cidade Nova. Podem requerer a isenção os candidatos que: cursaram integralmente o ensino médio em escolas da rede pública; possuem renda familiar per capita igual ou inferior a um salário mínimo e meio; estão inscritos no Cadastro Único para Programas Sociais do Governo Federal. O resultado sai no dia 11 de agosto.
Ao todo o IFS está ofertando 935 vagas distribuídas pelos seguintes cursos: Edificações, Eletrotécnica, Informática, Segurança do Trabalho, Eletrônica, Alimentos, Petróleo e Gás, Química, Hospedagem e Guia de Turismo, no Campus Aracaju; Edificações e Eletromecânica, no Campus Lagarto; Manutenção e Suporte em Informática, no Campus Propriá; Agrimensura, Manutenção e Suporte em Informática, Agropecuária e Agroindústria, no Campus São Cristóvão; Manutenção e Suporte em Informática, no Campus Socorro; Comércio, no Campus Tobias Barreto; além de Eletrotécnica e Edificações, no Campus Estância.
Dúvidas ou mais informações no telefone: (79 3711-3291).
Confira aqui o edital.
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